MC020系列測量平臺
MC020系列（TA610、TA620、TA630、TA631、TA650）
TA610測量平臺：
1、齒條升降，立柱可以隨意轉(zhuǎn)動，用來測量不容易放置的工件，可提高測量精度。
2、花崗巖平臺工作面精度：00級（平面公差值3μm）
3、花崗巖平臺大小尺寸：400mm×250mm×70mm
4、垂直升降高度：270mm
5、垂直升降微調(diào)量：20mm
TA620測量平臺：
1、絲桿升降，平臺上設(shè)置V型槽，用來測量形狀較小的工件，可提高測量精度。
2、花崗巖平臺工作面精度：00級（平面公差值3μm）
3、花崗巖平臺大小尺寸：400mm×250mm×70mm
4、垂直升降高度：300±1mm
5、升降回程誤差：≤手輪旋轉(zhuǎn)1/6圈
TA630微調(diào)平臺：
1、X―Y平面轉(zhuǎn)角，俯仰角。
2、調(diào)整范圍：X向 ±12.5mm Y向：±12.5mm
3、旋轉(zhuǎn)角度：粗調(diào) 360 微調(diào)±5 俯仰角度 0～5
TA631微調(diào)平臺：
1、X―Y平面轉(zhuǎn)角。
2、調(diào)整范圍：X向 ±12.5mm Y向：±12.5mm
3、旋轉(zhuǎn)角度：粗調(diào) 360 微調(diào)±5
TA650測量平臺（TR300專用）
1、垂直方向上的升降高度：300±1mm （微調(diào)由儀器上的可調(diào)支架完成）
2、垂直方向上的旋轉(zhuǎn)角度：±45°
3、回程誤差：不大于手輪的1／6圈
4、平臺的平面度：00級
5、平臺尺寸：600 X 420 X 80 mm
6、總高度：695 mm
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